全息光刻是制备周期性微纳结构的重要手段。多光束相干可形成光强在空间上呈周期性分布的干涉图案。利用多光束的干涉图案对光刻胶进行曝光，再对光刻胶进行显影处理，可获得对应的周期性结构(如光子晶体、微透镜阵列)。双光束相干可制备周期性条纹结构，三光束相干可制备具有对称结构的六边形阵列，而四光束相干可形成具有对称结构的矩形阵列。美国伊利诺伊大学香槟分校Braun等将全息光刻技术与平面光刻技术结合，制备了具有特殊微纳结构的三维多孔电极。

　　①在氧化铟锡(ITO)玻璃基底上涂覆负性光刻胶SU8，并采用四束相干光曝光写入图案信息，经显影后得到有序的多孔结构;

　　②将正性光刻胶AZ9260灌入多孔结构;

　　③进行平面光刻，构建电极结构;

　　④在多孔结构表面电镀金属镍;

　　⑤去除所有光刻胶，并刻蚀去除裸露的ITO;

　　⑥向多孔金属镍表面交替沉积镍-锡合金和二氧化锰，获得多孔电极。采用这种三维多孔电极可大幅提升电池的功率密度和能量密度。

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